Novikov, P., LE DONNE, A., Cereda, S., Miglio, L., Pizzini, S., Binetti, S., et al. (2009). Phenomenological model of nanocrystalline silicon film formation by plasma-enhanced chemical vapor deposition. OPTOELECTRONICS INSTRUMENTATION & DATA PROCESSING, 45(4), 322-327 [10.3103/S8756699009040062].
Phenomenological model of nanocrystalline silicon film formation by plasma-enhanced chemical vapor deposition
LE DONNE, ALESSIA;CEREDA, SILVIA;MIGLIO, LEONIDA;Pizzini, S;BINETTI, SIMONA OLGA;MONTALENTI, FRANCESCO CIMBRO MATTIA
2009
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