Lange, H. (2011). Der Einsatz von Nanoskiving zur Fertigung von Nanostrukturen fr elektronische und optische Anwendungen. ANGEWANDTE CHEMIE, 123, 8720-8740 [10.1002/ange.201101024].
Der Einsatz von Nanoskiving zur Fertigung von Nanostrukturen fr elektronische und optische Anwendungen
Lange, Heiko
2011
Abstract
Dieser Übersichtsartikel handelt von Nanoskiving (zu Deutsch etwa: Nano-Hartschälen oder Nano-Dünnschleifen) – einer einfachen und kostengünstigen Methode zur Nanofabrikation, die die Notwendigkeit eines Zugangs zu Reinräumen und den dazugehörigen Einrichtigen minimiert, und welche es zudem ermöglicht, Nanostrukturen aus Materialien und in Formen zu erstellen, für die herkömmlichere Methoden der Nanofabrikation ungeeignet wären. Nanoskiving besteht aus drei Stufen: i) Auftragung eines metallischen, halbleitenden, keramischen oder polymeren Dünnfilms auf einer Epoxidharz-Oberfläche; ii) Einbetten dieses Films in Epoxidharz, so dass ein Epoxidharzblock entsteht, in dem der Film eingeschlossen ist; und iii) Aufteilen des Epoxidharz-Blocks in dünne Scheiben mit Hilfe eines Ultramikrotoms. Die Scheiben, die zwischen 30 nm und 10 µm dick sind, enthalten Nanostrukturen, deren laterale Dimensionen den Stärken der eingebetteten Filme entsprechen. Elektronische Anwendungen der Strukturen, die über diesen Prozess erhalten werden, finden sich in der Fabrikation von Nanoelektroden für die Elektrochemie, von chemoresistenten Nanodrähten und von Heterostrukturen organischer Halbleiter. Optische Anwendungen finden sich in den Bereichen der Resonatoren für Oberflächenplasmonen, der plasmonischen Hohlleiter und den Frequenz-selektiven Oberflächen.
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